6月10日音讯，依据中科院网站发布的西信息，近来，我国科学院上海光学精细机械研究所信息光学与光电技能实验室提出一种依据虚拟边与双采样率像素化掩模图形的快速光学附近效应批改技能，仿真依据成果得出该技能具有较高的批改功率。 此音讯一出，马上被一些人解读成“国产光刻机获得打破”，现实果真如此吗?

  首要，肯定要祝贺此事，由于这的确算一种技能打破。上海光学精细器械研究所，业界称之为上海“光机所”，此前，2020年9月16日，中科院正式揭露宣告，已建立光刻机科研小组，争夺在短时刻内处理卡脖子问题，为国内科技公司的开展保驾护航。 上海光机所正是中科院承当此事的主力军之一。

  其次，要注意的是，中科院上海光机所研制的光刻机与全球最抢先的光刻机厂商荷兰ASML公司的EUV光刻机原理不同。

  光刻工艺分为两种：一种是选用化学制品，比如光刻胶等化学原料，对硅基晶圆上的光刻胶图画进行光化学反响的化学进程。荷兰ASML公司的EUV光刻机就归于这种类型。

  另一种是，选用计算机模仿，从理论上探究、进步光刻分辨率与光刻工艺的新途径，为光刻制程供给工艺参数辅导的计算机光刻。 中科院上海光机所研制的光刻机技能则归于这种类型。

  这两种技能有什么不同呢？不同首要在于中科院上海光机所的光刻机技能还处于实验阶段，处于技能证明阶段，而荷兰ASML公司的EUV光刻机归于彻底可商用，技能老练。

  所以，关于 中科院上海光机所研制的光刻机技能既可以快乐，但又不能快乐得太早。任正非在上一年曾清晰说，光刻机不需要大学和研究机构操心，根本原因便是高校和科研机构尽管具有超高的理论才能，可是做详细产品的研制才能并不强，说白了，到完成实践商用才能要很长时刻。

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