交易事情频发布景下，国产代替呼声愈高。刻蚀设备在半导体中的重要性仅次于光刻设备，国产代替刻不容缓。

  刻蚀是与光刻、薄膜堆积并排的，晶圆制作的完好进程中最重要的三大工艺之一，其对芯片的良品率和产能有很大影响。

  刻蚀工艺阅历了从湿法到干法的演进，干法刻蚀大致上能够分为等离子刻蚀，离子溅射刻蚀，反应离子刻蚀三种。

  刻蚀设备具有了十分高的职业壁垒。在半导体设备中，刻蚀设备的重要性仅次于光刻机。

  2020年，刻蚀设备在晶圆制作设备商场中的占比超越20%，仅次于光刻机的24%。2021年，全球刻蚀设备商场额为199.2亿美元，同比添加45.6%，2022年估计将到达242亿美元。

  刻蚀设备商场被外企独占。2021年，职业TOP3（泛林集团、东京电子、使用资料）占有了职业91%的商场。国内企业中微公司、北方华创、屹唐半导体算计仅占有2.36%。

  近年来，交易约束事情频发，海外缺货、断供危险添加，刻蚀设备国产化紧迫性提高，国内刻蚀工业迎来空前开展机会且规划巨大。2022年1-9月，中国大陆刻蚀设备进口额达30.25亿美元。

  当时，国内刻蚀工业链已初具雏形。刻蚀设备方面，已有北方华创(002371.SZ)、中微公司(688012.SH)、屹唐股份(未上市)等有必定技能实力的企业。