证券时报e公司讯，苏大维格在互动渠道表明，在大类上，光刻机主要有两种类型。第一类是掩摸光刻机，如ASLM的EUV设备，比如“复印机”，把掩摸上的图形投射到硅片上，可用于各类芯片的批量生产，这类光刻机技能工艺和资料难度极高；第二类是无掩摸光刻机，也称直写光刻机，包含激光直写光刻机和电子束光刻机等，用于直接将数据转变成相关图形，比如“打印机”，可用于芯片/液晶掩摸、光模具及其他微结构的制备。公司长时间从事光刻机的研制，光刻机完成了从自用到出售给国内外科研院所，再到出售给相关企业的开展途径。现在，公司对外出售的光刻机主要为激光直写光刻机，其间在科研教育范畴具有必定的知名度和市场占有率，在其他职业和范畴已完成的出售金额比较小，部分应用范畴离世界领先水平具有必定距离，需求继续的研制投入；纳米压印光刻范畴，公司设备主要为自用，对外出售金额与直写光刻机比较较小；此外，公司也开发了投影扫描的光刻设备，拟应用于光伏电镀铜图形化范畴，现在没有完成出售。

  证券之星估值剖析提示苏大维格盈余才能比较差，未来营收成长性较差。归纳基本面各维度看，股价偏高。更多

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