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极紫外光刻（Extreme Ultra-violet），常称作EUV光刻，它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。具体为采用波长为13.4nm 的紫外线。极紫外线就是指一定要通过通电激发紫外线管的K极然后放射出紫外线。
本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合 一场价值不菲的科技豪赌。 据报道，美国政府投资价值约10 亿美元的研究中心，以开发下一代极紫外光（EUV）制程技术，挑战荷兰产业领导者艾司摩尔（ASML)
ASML摊牌：1.4nm、0.5nm、0.2nm芯片时，才要换EUV光刻机
目前ASML对外大规模发售的光刻机叫做标准光刻机，也可称之为LOW NA EUV，意思就是其数值孔径是较低值的，所以称之为LOW，NA=0.33。 这种光刻机大多数都用在7nm及以下芯片的制造，至于往下能够支持到多少纳米？ASML没有说
自从芯片产业的制造，采用光刻方式之后，光刻机就成为了不可或缺的设备之一。 而当光刻进入浸润式时代后，ASML抱着台积电大腿，豪赌浸润式，彻底崛起，将尼康、佳能等远远的甩在了身后，真正一家独大。 如今在浸润式光刻机领域，ASML份额超过90%，而在EUV光刻机领域，ASML的份额达到100%
光刻机巨头阿斯麦业绩爆雷 股价大跌：网友支招7nm以下EUV给中国厂商供货
快科技4月18日消息，光刻机巨头阿斯麦（ASML）业绩爆雷，这也导致公司股票价格大幅下挫。 阿斯麦发布的2024年第一季度财务报表。财报多个方面数据显示，公司今年一季度营收端大幅度地下跌，实现盈利收入52.9亿欧元，同比下降21.6%，不及市场预期：公司一季度纯利润是12.24亿欧元，同比下滑37.4%
一台近30亿元！ASML明年生产10台全新EUV光刻机：Intel独吞6台
集邦咨询的报告数据显示，ASML阿斯麦将在2024年生产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机，其中Intel就定了多达6台。同时，三星星也在积极角逐新光刻机，台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以及最高能达到的工艺节点
对于半导体行业而言，光刻技术和设备发挥着基础性作用，是必不可少的。 ?所谓光刻，就是将设计好的图形从掩模版转印到晶圆表面的光刻胶上所使用的技术。光刻技术最先应用于印刷工业，之后长期用来制造印刷电路板（PCB），1950年代，随着半导体技术的兴起，光刻技术开始用来制造晶体管和集成电路（IC）