【48812】晶合集成取得实用新型专利授权:“一种半导体湿法蚀刻设备及半导体机台”

时间: 2024-08-27 16:18:48 |   作者: 新闻资讯

  证券之星音讯,依据企查查多个方面数据显现晶合集成(688249)新取得一项实用新型专利授权,专利名为“一种半导体湿法蚀刻设备及半导体机台”,专利申请号为CN9.5,授权日为2024年5月7日。

  专利摘要:本实用新型供给一种半导体湿法蚀刻设备及半导体机台,半导体湿法蚀刻设备包含:腔室;承载台,设置于所述腔室内,所述承载台用于接受晶圆;机械臂;蚀刻喷淋管,装置于所述机械臂的底部;以及抽气件,设置于所述机械臂上。本实用新型可进步湿法收拾洗刷设备腔室内的环境清洁度,可进步制程过程中的清洗才能。

  今年以来晶合集成新取得专利授权119个,较去年同期增加了142.86%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研制方面投入了10.58亿元,同比增23.39%。

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