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  近日来，随着特朗普政府对华为打压的升级，国内高科技领域的最大短板芯片产业备受市场关注。不管是中芯国际得到国家集成电路产业基金等22.5亿美元注资，还是世界光刻机霸主ASML设立无锡基地都成了媒体关注的焦点。

  而在A股中，芯片上游设备领域的中微公司和北方华创也接连创出新高。这两家企业是国内刻蚀机领域的独苗企业，而刻蚀机是仅次于光刻机的芯片生产设备。

  “光刻”和“刻蚀”是两个关键且紧密相连的流程。“光刻”相当于用投影的方式把电路图“画”在晶圆表面的光刻胶上。光刻胶表层是光阻，一种光敏材料，被曝光后会消解。

  “刻蚀”，是沿着光刻胶表面显影的图案，将电路图刻在晶圆上。对衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性腐蚀或剥离的过程，进而形成光刻定义的电路图形。

  光刻是最复杂、最关键、成本最高、耗时最高的环节；刻蚀的成本仅次于光刻，薄膜沉积也是必不可少的重要工序，在制造中，为实现大型集成电路的分层结构，会反复进行沉积-刻蚀-沉积的过程。

  虽然都是半导体制造的关键工具，但刻蚀机的制造难度是明显低于光刻机的。目前刻蚀机的刻蚀精度已经显著超过光刻机的光刻精度。刻蚀机的技术难度与半导体工艺是直接相关的。

  在全球市场上，刻蚀机虽然不像光刻机那样有ASML这样的垄断企业，但市场占有率也比较集中。2018年全球刻蚀设备市场中，泛林半导体、东京电子、应用材料三大公司占据约94%的市场份额。

  国内刻蚀机市场，中微公司份额约为3.45%，国际巨头占据绝大部分市场，差距较大。中微公司刻蚀机在国内处于行业领先水平，国内两家知名芯片制造企业长江存储和华力微电子采购的刻蚀机，来自国产的设备分别只有9%和17%。

  国内刻蚀机厂商主要有上海中微半导体公司和北京的北方华创科技公司。2017年，中微公司研发的7nm等离子体刻蚀机已经在国际一流的集成电路生产线nm蚀刻机已得到了台积电认可，将用于台积电5nm芯片的产线。

  目前，中微公司在芯片介质刻蚀设备、硅通孔刻蚀设备、MOCVD设备三大细致划分领域处于世界三强的水平，是国内刻蚀设备领域的有突出贡献的公司。尤其是在介质刻蚀设备领域，中微半导体的电容型介质刻蚀设备，仅次于东京电子和泛林半导体 。

  2016年，北方华创自主研发的国内首台12英寸14纳米FinFET ICP等离子硅刻蚀机NMC612D出货到上海集成电路研发中心，并在2019年12月成功帮助上海集成电路研发中心完成了14nm FinFET自对准双重图形相关工艺的自主开发。

  14nm FinFET自对准双重图形工艺，是目前主流的14nm FinFET制造中的关键工序，也是由DUV向极紫外光EUV光刻技术过渡需要用到的关键工艺。目前，北方华创正在开展10nm刻蚀设备的研发进程，也在关注原子层刻蚀（ALE）技术的研发。

  从客户上看。中微公司的刻蚀设备客户以台湾企业和外企为主，包括了台积电、联华电子、海力士、格罗方德、博世和意法半导体等国际大厂。而北方华创的客户主要是国内企业。中微公司的刻蚀机技术更加领先，且得到了世界一流半导体企业的认可。

  相比光刻机领域，中国在刻蚀机领域技术上，已经接近甚至达到国际领先的水平。

  中微公司成立于2004年8月，董事长尹志尧曾在英特尔公司、泛林半导体、应用材料公司等公司任职。中微公司的创业团队中，绝大部分都是在硅谷主流半导体公司担任过工程师和技术管理者的资深专家。

  中微公司的主营业务是用于集成电路、LED芯片等微观器件领域的等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备和MOCVD设备等关键设备的研发、生产和销售。公司的基本的产品有电容性等离子体刻蚀设备，电感性等离子体刻蚀设备，MOCVD设备，VOC设备。

  2019年半导体产业咨询公司VLSI Research对全球半导体设备公司评比中，中微公司在芯片制造设备专业型供应商与专用芯片制造设备供应商评比中均名列第二，并在薄膜沉积设备评比中继续名列第一。中微也是全球晶圆制造设备商评级最高的五家公司之一。

  截至2019年12月31日，公司已申请1467项专利，其中发明专利1297 项；已获授权专利1015项，其中发明专利859项。

  北方华创是由北京七星电子和北京北方微电子两家公司在2015年重组而来，2017年才更名为北方华创。

  北方华创有半导体装备、真空装备、新能源锂电设备及精密元器件四个事业群，业务比中微公司庞杂得多。在刻蚀机机上，北方华创主要做的是硅刻蚀和金属刻蚀方向，其中硅刻蚀机突破了14nm技术。中国第一台自主研发的干法刻蚀机就是北方华创的前身北方微电子在2005研发成功的。

  至今，北方华创累计申请专利4288项，其中申请发明专利2834项，累计授权专利2369项，其中授权发明专利1476项。

  北方华创全自动制绒机、卧式氧化/扩散炉、PECVD、单晶炉等设备均已实现进口替代。在第三代半导体领域，公司SiC刻蚀、GaN刻蚀、介质刻蚀、PECVD、PVD以及湿法清洗机等关键制程设备成为行业主流配置机台。

  2019年，公司新型显示设备和真空设备保持平稳增长，新型显示设备全面服务于主流硅基OLED显示企业，自主研发项目超高温真空炉达到行业先进的技术水平。

  从营业收入上比较，中微公司2019年收入19.47亿， 北方华创40.58亿，中微还不到北方华创的一半。利润上是相同，中微公司1.89亿，北方华创3.09亿，北方华创要高出中微公司很多。

  研发投入北方华创11.37亿，中微公司4.25亿，北方华创也超出中微公司2倍。但市值上，现在北方华创市值866.5亿，中微公司市值1215亿。中微公司是北方华创的1.4倍。

  2020年一季度收入、利润，北方华创收入9.38亿，增长32.49%，利润2648.65万元，增长33.01%。

  2020年一季度收入、利润，中微公司收入4.13亿，增长9.65%，利润2622.49万元，增长89.47%。

  从2020年第一季度的利润来看，中微公司已经赶上了北方华创，但是这可能还在于政府救助。

  两家公司都从政府获得了大量补助。中微公司2016-2018年分别从政府获得1.16亿元、1.17亿元、1.70亿元补助。北方华创2016-2019年分别从政府获得3.78亿元、3.88亿元、1.77亿元、2.67亿补助。

  据3月13日中微公司发布的公告,2020年前三个月,中微公司已获得政府补助1.37亿元。

  目前中微公司的电容性刻蚀设备的全球市场占有率约在1.4%左右。随义务规模的一直增长，中微公司刻蚀设备的全球市场占有率有望进一步提升。

  2020年，26家机构对北方华创利润预测范围为4.03亿元-6.09亿元，均值5.01亿元。

  2021年，25家机构对北方华创利润预测范围为5.53亿元-9.70亿元，均值7.34亿元。

  2022年，21家机构对北方华创利润预测范围为7.24亿元-15.08亿元，均值10.05亿元。

  2020年，18家机构对中微公司利润预测范围为2.01亿元-3.33亿元，均值2.72亿元。

  2021年，17家机构对中微公司利润预测范围为2.91亿元-5.47亿元，均值3.99亿元。

  2022年，16家机构对中微公司利润预测范围为4.36亿元-9.04亿元，均值5.57亿元。

  可以看出，未来几年内，北方华创的收入、利润还是会高于中微公司。但从市值上看，中微公司已经大幅领先北方华创。原因在于：

  1、在刻蚀机技术上，中微公司技术达到世界领先水平，也已得到世界主要半导体制造企业认可。2018年，中微公司也已成为MOCVD设备行业里的有突出贡献的公司，国内市场占有率超过70%。而北方华创主要客户为国内企业，相对应用在较低端的刻蚀机领域。

  2、中微公司的管理层更受认可。中微公司管理层基本都在海外头部半导体公司工作过，公司股权也较为分散，管理更为现代化。北方华创由大型国有公司控股，管理层过往主要在国内大型国企工作。

  目前实际上国内集成电路设备的国内市场自给率仅有5%左右，在全球市场仅占1-2%，技术上的含金量最高的集成电路前道设备市场自给率更低。在国家全力发展芯片产业的大背景下，未来芯片生产设备国产化替代空间广阔。

  北方华创生产的 14nm FinFET刻蚀机多项关键指标达到国际领先水平，深硅刻蚀设备也已成功进入东南亚市场。而中微半导体稳坐中国介质刻蚀设备市场龙头，在MOCVD设备行业里国内市场占有率也已超过70%。

  今年以来，北方华创的股价已经翻倍，而中微的股价甚至接近年初的3倍。两家公司涨势如虹的原因主要在于相对目前的业绩，在国家全力发展芯片产业，进行国产化设备进口替代的情况下，未来的营收规模和利润空间巨大。

  中微公司和北方华创的市场空间，取决于特朗普政府利用芯片产业打压中国高科技企业的决心。目前刻蚀机市场三大巨头美国应用材料公司市值500亿美元，范林半导体市值374亿美元、东京电子市值316亿美元。如果中国芯片产业能发展起来，中微公司和北方华创市值都可能会达到300亿美元（即2000亿人民币左右）水平。