刻蚀设备龙头迈向平台化发展

产品介绍

  中微公司是国内刻蚀设备有突出贡献的公司，全方面覆盖半导体刻蚀应用；公司的MOCVD设备已经在蓝绿光LED生产线上占据绝对领先的市占率。公司开发的可调节电极间距的CCP刻蚀机PrimoSD-RIE已进入国内领先的逻辑芯片制造客户开展现场验证；公司针对超高深宽比刻蚀自主开发的具有大功率400kHz偏压射频的PrimoUD-RIE已经在生产线深宽比结构的能力；ICP刻蚀设备中的PrimoNanova系列新产品在客户端安装腔体数近三年实现>

  中微公司是国内刻蚀设备有突出贡献的公司，全方面覆盖半导体刻蚀应用；公司的MOCVD设备已经在蓝绿光LED生产线上占据绝对领先的市占率。公司开发的可调节电极间距的CCP刻蚀机PrimoSD-RIE已进入国内领先的逻辑芯片制造客户开展现场验证；公司针对超高深宽比刻蚀自主开发的具有大功率400kHz偏压射频的PrimoUD-RIE已经在生产线深宽比结构的能力；ICP刻蚀设备中的PrimoNanova系列新产品在客户端安装腔体数近三年实现

  全球半导体设备规模随5G、AI等新兴技术的崛起逐步扩大，2023年受下游芯片周期疲软和终端库存过高的影响市场规模会降低，预计2024年需求回暖，全球半导体设备市场规模达1053亿美元。根据半导体行业观察援引KnometaResearch数据，中国市场晶圆产能不断的提高，2026年有望占据榜首带动半导体长期需求。

  公司稳步推进三维战略，刻蚀设备和MOCVD设备维持竞争优势。CCP刻蚀设备实现多批次销售，大马士革刻蚀工艺进展顺利。公司ICP技术设备类中的8英寸和12英寸深硅刻蚀设备PrimoTSV200E、PrimoTSV300E在晶圆级先进封装、2.5D封装和微机电系统芯片生产线等成熟市场继续获得重复订单的同时，在12英寸的3D芯片的硅通孔刻蚀工艺上得到成功验证，并在欧洲客户12英寸微机电系统芯片产线上获得认证的机会。MOCVD设备布局行业前沿，针对Micro-LED应用的专用MOCVD设备开发顺利。公司新开发出4款薄膜沉积产品。

  我们预计公司将在24-26年实现营业收入82/109/139亿元，对应当前PS估值14/11/8倍，实现归母净利润17/23/29亿元，对应当前PE估值69/50/39倍。我们大家都认为公司作为刻蚀设备行业龙头，而且薄膜沉积多类新设备也开始获得订单，具备平台型设备公司实力。首次覆盖，给予“买入”评级。

  下游客户资本性支出波动较大及行业周期性特点带来的风险，下游客户扩产没有到达预期的风险，政府补助与税收优惠政策变动的风险，行业竞争加剧的风险，产品研制/推广没有到达预期的风险。

  证券之星估值分析提示中微公司盈利能力平平，未来营收成长性一般。综合基本面各维度看，股价偏高。更多

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