日前，武汉太紫微光电科技有限公司（简称太紫微公司）在全国首先霸占组成光刻胶所需的质料和配方，我国芯片制作要害原资料取得瓶颈性打破。该公司推出的T150A光刻胶产品，已经过半导体工艺量产验证，完成配方全自主规划，有望创始国内半导体光刻制作新局面。

  从功能来看，该产品对标世界头部企业干流KrF光刻胶系列，相较于国外同系列新产品UV1610，T150A在光刻工艺中表现出的极限分辩率达120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优异。

  长江商报记者发现，太紫微企业建立至今不到5个月时刻。天眼查显现，太紫微企业建立于2024年5月31日，地址坐落武汉光谷，是一家以从事研讨和实验开展为主的企业，企业注册资本200万元。公司法定代表人为朱明强，持股票份额40%，终究获益股份77%。

  依据华中科技大学官网，朱明强为华中科技大学武汉光电国家研讨中心二级教授，光学与电子信息学院双聘教授，首要研讨范畴为有机及纳米光电子学，研讨方向包含荧光分子开关组成与使用、有机光电资料与器材。朱明强于2018年当选英国皇家化学学会会士，近五年来首要是做荧光分子开关组成及超分辩显微成像、集合诱导发光、光刻胶，以及先进动力资料和器材等项目的相关研讨。

  这意味着，太紫微公司的背面，有着华中科技大学武汉光电国家研讨中心团队的强力支撑。

  武汉光电国家研讨中心是科技部于2017年同意建造的第一批、也是仅有一批6个国家研讨中心之一，其前身为2003年获批的武汉光电国家实验室。该团队主攻要害光刻胶底层研制技能，已在电子化学品范畴深耕20余年。

  本次太紫微公司推出的T150A光刻胶产品，可谓业界的一颗新星。太紫微公司负责人朱明强表明，这是我国初次霸占组成光刻胶所需质料和配方，对我国逐渐改变在集成电路范畴的受制现状具有重大意义。不过从原资料开发起步，终究取得自主知识产权的配方技能，这仅仅是开始效果。未来团队还将研制一系列适用于不同场景的KrF与ArF光刻胶，为国内相关工业带来更多立异与打破。

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