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  【环球网科技归纳报导】11月26日音讯，三星电子在3D NAND闪存出产领域取得了严重技能打破，成功将光刻胶（PR）的使用量折半，这一立异估计将显着提高出产功率并大幅度下降本钱。

  据韩媒The Elec报导，三星电子经过准确操控涂布机的转速（rpm）和优化PR涂层后的蚀刻工艺，将每层涂层所需的光刻胶用量从7-8cc下降至4-4.5cc。此外，三星采用了更厚的氟化氪（KrF）光刻胶，使得一次性构成多个层成为可能，进一步提高了工艺功率。

  但是，更厚的光刻胶也带来了出产中的应战。因为光刻胶的高粘度特性，有几率会使涂层均匀性问题。未处理这一问题，三星电子与长时刻合作伙伴东进半导体化学公司自2013年起就密切合作，一同研制高性能光刻胶。东进半导体化学公司一直是三星KrF光刻胶的独家供货商，为三星第7代（11微米）和第8代（14微米）3D NAND供给了要害资料。

  音讯称，从第9代3D NAND开端，三星将全面使用这项新技能。这一立异行动估计将为三星节约每年数十亿韩元的本钱。但这也代表着东进半导体化学公司将面对来自三星的订单削减。东进半导体化学公司现在每年从光刻胶事务中取得约2500亿韩元收入，谈判60%来自三星。（鱼七）

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