国产光刻机再添新成就!上海微电子完成22nm光刻机研制

时间: 2024-09-28 11:36:02 |   作者: 大气常压等离子清洗机

产品介绍

  近几年来,我国在芯片科技领域的技术水平与国际顶尖水平一直存在着不小的差距,这直接引发我国多年来屡次受到西方技术垄断问题的困扰。因此,技术国产化也就成了众多中国公司发展的重点方向。

  上海微电子是我国光刻机工艺制造领域的龙头产业。据新闻媒体报道,日前,上海微电子技术公司已成功完成了22nm光刻机的研制工作!从技术角度来看,上海微电子的22nm光刻机以紫外线为主要光源,在工艺制程上与国际顶尖大厂荷兰ASML相比还是有一定差距。但从近几年国内光刻机整体研制进程来看,这也是我国在光刻机领域所取得的一大突破。

  放眼全球光刻机制造市场我们显而易见,现阶段全球顶尖的光刻机制造商主要有荷兰ASML、佳能和尼康等等,这几家大厂凭借超强的技术实力多年来成功占据了全球98%以上的市场占有率,是很多国家科技产业链中不可或缺的存在,所谓的西方技术垄断也就是这么来的。

  目前,荷兰ASML的光刻机制程已能达到5nm水平,在电子科技、军用、智能化等多个领域被广泛认可并已大规模投入到正常的使用中。对比来看,以上海微电子为代表的的中国企业并没有执着于难度要求过高的高精尖技术,而是选择从相对低端的技术产品入手,从22nm开始,不断向更高端的技术层面迈进。

  从此前官方公布的数据分析来看,凭借多年来的不懈努力,上海微电子已成功占领了全球40%左右的市场占有率,收效显著。如果22nm制程的光刻机技术能快速使用并投入大规模量产,将在很大程度上缓解中国被西方技术垄断的现状,这也是国产芯片业的一大突破。

  中国逐步摆脱对西方技术的依赖后,最直接受损的当然是众多选择在技术上进行垄断的西方国家。媒体消息,上海中微电子正式公开宣布完成22nm工艺制程后,白宫方面曾多次下令调查此事,白宫对中国光刻机的进展速度感觉到很惊讶,并急于确定此事是否属实,因为一旦中国实现技术自给,众多西方企业将面临更加大的市场之间的竞争和挑战。

  对于中国企业来说,虽然西方国家的技术封锁在极短的时间内造成了供应链中断、研制进程受阻等问题,但长久来看,技术垄断也在某些特定的程度上推动了中国技术的进步。说到底,危机感和居安思危的竞争意识才是一个国家科学技术进步的最强推动力。