产品介绍

  国产光刻胶龙头厂商晶瑞股份自去年9月份开展光刻机采购活动以来，受到行业和长期资金市场的密切关注。

  1月19日，晶瑞股份发布了重要的公告称，经公司多方协商、积极运作，顺利购得ASMLXT1900Gi型光刻机一台。该设备于1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室；下一步，公司将积极组织相关资源，尽快完成设备的安装调试工作，研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶。

  光刻胶生产的基本工艺复杂，技术壁垒较高，长年被日本、欧美企业垄断，目前前五大厂商占据了全球光刻胶市场87%的份额，行业集中度较高。半导体光刻胶作为集成电路生产的全部过程中的重要一环，对我国集成电路发展具备极其重大意义。

  近年来在市场拉动和政策支持下，我国集成电路产业整体实力明显提升，对上游材料的需求也迅速增加，但受制于我国光刻胶技术发展水平，目前适用于6英寸硅片的g线英寸硅片的KrF光刻胶的自给率不足5%，而适用于12寸硅片的ArF光刻胶基本依靠进口，光刻胶国产化任重道远。

  面对半导体光刻胶慢慢的变成了我国“卡脖子”的技术领域，在国际环境日益严峻的情况下，如不能成功实现该领域的国产化，未来将付出更大的代价。而晶瑞股份量产光刻胶近30年，组建了国内领先的光刻胶研发团队，有着非常丰富的光刻胶研发和生产经验，先后承担了国家“85”攻关、“863”重大专项、科技部创新基金等科技项目、承担了国家02重大专项“i线光刻胶产品研究开发及产业化”项目，并顺利通过国家02重大专项验收。公司完成中试的KrF光刻胶已进入客户测试阶段，达到0.15μm的分辨率。本次购买的ASML光刻机设备系公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目的必要实验设备，旨在研发出更高端的ArF光刻胶，若研发工作进展顺利，将有利于公司将光刻胶产品序列实现到ArF光刻胶的跨越，并最终实现应用于12英寸芯片制造的战略布局。

  据披露，此次晶瑞股份采购的光刻机设备为ASMLXT1900Gi型ArF浸入式光刻机，可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶，公司也将以这台光刻机为核心设备，打造半导体材料的综合研发平台。此前，晶瑞股份研发的i-line光刻胶已经取得国内主流半导体厂商订单。

  晶瑞股份表示，本次公司采购的ASML光刻机设备的顺利交付，可以保障公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目关键设备的技术先进性，对加快产品研制项目进度有积极影响，有利于逐步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，有助于落实公司发展的策略，提升公司抗风险能力和可持续发展能力。

  与此同时，晶瑞股份作为国产化的光刻胶生产企业，公司目前KrF已完成中试处于验证阶段，拟进一步研发ArF光刻胶项目，将有利于逐步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，相应随着下一步的产业化的实施，可弥补我国在高端光刻胶领域的空白，提升国产半导体光刻胶的整体实力。

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