产品介绍

  3月12日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）宣告其等离子体刻蚀设备反响总台数全球累计出货超越5000台。这包含CCP高能等离子体刻蚀机和ICP低能等离子体刻蚀机、单反响台反响器和双反响台反响器共四种构型的设备。等离子体刻蚀机，是光刻机之外，最要害的、也是商场最大的微观加工设备。因为微观器材越做越小和光刻机的波长约束，也因为微观器材从二维到三维开展，刻蚀机是半导体设备曩昔十年添加最快的商场。这一重要里程碑标志着中微公司在等离子体刻蚀设备范畴继续得到客户与商场的广泛认可，也显现了公司在等离子体刻蚀范畴已进入世界前列。

  中微公司致力于为全球集成电路和LED芯片制造商供给抢先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的CCP高能等离子体和ICP低能等离子体刻蚀两大类，包含十几种细分刻蚀设备已能够掩盖大多数刻蚀的使用。中微公司的等离子体刻蚀设备已被大范围的使用于国内和世界一线纳米及更先进工艺的很多刻蚀使用。中微公司最近十年侧重开发多种导体与半导体化学薄膜设备，如MOCVD，LPCVD，ALD和EPI设备。

  中微公司的刻蚀设备在曩昔的20年积累了很多的芯片生产线量产数据和客户验证数据，已能掩盖绝大多数的刻蚀使用，包含各种高端的使用。中微公司的等离子体刻蚀设备逐渐扩展商场占有率，该公司的CCP高能等离子刻蚀设备和ICP低能等离子体刻蚀设备的出货量近年来都坚持快速地添加。CCP设备在线累计装机量近四年年均添加大于37%，已打破4000个反响台；ICP设备在线累计装机量近四年年均添加大于100%，已打破1000个反响台。到2025年2月底，公司累计已有超越5400个反响台在国内外130多条生产线，全面实现了量产和大规模重复性出售。

  据成绩快报显现，中微公司2024年经营收入约90.65亿元，较2023年添加约28.02亿元。该公司在曩昔13年坚持经营收入年均添加大于35%，近四年经营收入年均添加大于40%的基础上，2024年经营收入又同比添加约44.73%。其间，刻蚀设备收入约72.77亿元，在最近四年收入年均添加超越50%的基础上，2024年又同比添加约54.73%。