夺下110亿订单中微公司开挂了!

时间: 2025-05-13 23:39:20 |   作者: 真空型等离子清洗机

产品介绍

  白酒行业,无论市场格局怎样变化,贵州茅台都稳稳坐好行业老大的位置,在盈利能力和分红表现上,稳超五粮液、泸州老窖等一众同行。

  锂电领域,即使宁德时代2024年营收增速有所下滑,但公司的盈利能力和市场占有率,也是妥妥的断层第一。

  以收入规模来计,在半导体设备领域,营收规模排在第二的中微公司,却在不少地方,都能与行业老大北方华创“硬碰硬”。

  从估值来看,2025年以来,中微公司市盈率PE长期高于70倍,北方华创市盈率更多在40倍徘徊。

  对估值需要辩证看待,市盈率一方面能反映出公司被高估还是低估,另一方面,也预示着对公司日后成长性的期待。产品技术过硬、竞争优势显著的公司,更容易获得高估值。

  2020年起,中微公司半导体设备业务的毛利率,就高于北方华创,直到进入2024年,北方华创的毛利率才实现反超,可见中微公司技术实力的强悍。

  刻蚀的目的,就是将电路图形,从光刻胶上转移到刻蚀的薄膜上,刻掉多余的,留下需要的。举个例子,雕刻印章时,所需图形以外的多余部分,都会被工匠用刻刀刻掉。把印章换成芯片,这个环节,就是我们常说的刻蚀。

  刻蚀工艺里,干法刻蚀比湿法刻蚀更好。干法刻蚀中,ICP刻蚀又比CCP刻蚀,技术难度更高一些。

  中微公司是国内刻蚀设备龙头,2023年北方华创刻蚀设备营收近60亿元,中微公司紧随其后,实现了约47亿元的营收。

  早在2007年,中微公司就推出国内首台CCP刻蚀机,2017年,又推出国内首个双反应台ICP刻蚀机。

  同时,公司的等离子刻蚀设备,已经批量应用于14nm、7nm、5nm等制程的集成电路产线中,具备超高深宽比掩膜、超高深宽比介质刻蚀、晶圆边缘Bevel等技术,客户覆盖台积电、中芯国际和华虹半导体等。

  当下,中微公司用于5nm制程逻辑芯片的ICP刻蚀设备,已实现销售,3nm刻蚀设备原型机,也已完成初步工艺的开发。

  从营收结构看,刻蚀设备是中微公司第一大收入来源,2024上半年营收占比接近八成。

  国内是全球最大的晶圆生产地,中芯国际、华虹半导体等晶圆厂都在扩产,预计2025年国内晶圆产能将达到1010万片(8英寸当量)。

  另外,集成电路的技术迭代,也增大了对刻蚀设备的需求。28nm集成电路生产时,需要的刻蚀工序为40次;而在7nm集成电路生产的全部过程中,这一工序已增加至140次。

  多个因素推进下,预计2024-2029年,全球刻蚀设备市场规模将从238亿美元增至350亿美元。

  2020-2023年,公司营收从22.73亿增至62.64亿,净利润从4.92亿增至17.89亿,营收和净利润的年复合增长率分别为40.2%、53.8%,成长势头相当迅猛。

  2024年业绩快报显示,中微公司实现盈利收入90.65元,同比增长大增44.73%;实现净利润16.26亿,同比下降8.93%。

  首先是研发投入过高,2024年中微公司研发费用约24.52亿元,同比增长约94.3%,拖垮了利润端表现。其次,2023年公司有7.86亿的投资收益,导致基期的净利润数值较高。

  不过,2024年公司扣非净利润增速为16.52%,说明公司真实经营情况是在变好的,净利润下滑只是短期现象。

  2020年来,中微公司每年新签的订单金额都在增长,2023年已经增加至83.6亿元。不仅如此,2024年前三季度,公司新增订单76.4亿元,仅刻蚀设备新增的订单,就有62.5亿元。

  而且,随着后面LPCVD设备的放量,预计2024年公司新增订单在110亿到130亿元。

  薄膜沉积,一般是以二氧化硅、氮化硅和铜金属等材质为原料,在基材上沉积一层纳米级别的薄膜,为后续的刻蚀和抛光工艺做准备。

  从2013-2023年,半导体芯片前道设备的增速来看,干法刻蚀、化学薄膜设备的成长性最高。因此,对薄膜沉积设备的布局相当重要。

  北方华创在薄膜沉积设备环节,技术要领先不少,PVD设备已经实现对逻辑芯片、存储芯片金属化制程的全覆盖。在2023年,其薄膜沉积设备收入超60亿元。

  另一边,中微公司2023年报披露,公司当年新开发出4款薄膜沉积产品,已通过客户现场验证,算是处于初步放量阶段。

  但也不必太过担心,2024上半年,中微公司的LPCVD薄膜沉积设备,获得4.76亿元订单,已经开了一个好头。

  与刻蚀设备的情况相似,随着芯片制程工艺的进步、3D NAND堆叠技术的迭代,薄膜沉积设备的需求,后续也将得到提升,有望为公司打开新的成长空间。

  在半导体设备领域,虽然中微公司的营收规模不及北方华创,但技术实力却不落下风。随公司在手订单的增长、下游产品需求的放量,未来有望迎来新一轮增长。

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