产品介绍

  我国坚决走科技自立自强之路并成效明显，尤其在芯片规划范畴打破世界独占完成国产代替。

  光刻机和刻蚀机作为芯片制作中心环节的关键设备至关重要，其中心技能长时间被欧美把握，给我国半导体工业自主可控开展带来应战和危险。但我国科研机构在窘境中展示强壮耐性和立异才能。

  清华大学凭仗前沿的 “稳态微聚束” 技能，成功研制出适用于高端极紫外（EUV）光刻机的中心光源，填补了国内涵该范畴的空白，为我国自主研制 EUV 光刻机筑牢了坚实根基。

  另一方面，有 “我国刻蚀机之父” 之称的尹志尧博士带领团队，成功研制出国内首台 5 纳米刻蚀机。这一效果标志着我国在芯片微观加工范畴步入世界顶尖队伍，完成了从 75 纳米到 5 纳米的严重跨过，其技能难度可与 “两弹一星” 工程相媲美。

  未来随国家对顶级科技范畴不断加大投入和支撑，以及国家大基金三期的加快落地，我国光刻机与刻蚀机工业或将迎来史无前例的开展机会。

  在此布景下，通过深入分析复盘整个商场，发现三家具有明显生长潜力的企业，值得重视!

  公司的12 英寸等离子体刻蚀机，晶边干法刻蚀设备，其技能功能已达业界干流水平。

  技能面来看，前期放量涨停，股价进入上升通道中，现在回踩下轨，日线形状的金叉信号，风口一来，有望加快起飞！

  凭仗其在精细光学镜头范畴的深沉根底和丰厚经历，为国产光刻机供给了中心部件的支撑，展示了其强壮的技能实力和商场潜力。

  技能面上，均线体系出现多头摆放，股价沿5日线稳步上行，显示出杰出的上升通道。