NMP:通用的偶极非质子有机溶剂国产去胶液甲基吡咯烷酮-姑苏研材微纳公司
时间: 2025-04-01 12:39:24 | 作者: 大气常压等离子清洗机
产品介绍
NMP是一种通用的偶极非质子有机溶剂。因为它极性大、溶解性强、沸点高、凝固点低,加之本公司售卖的NMP具有高纯度高品质等特色,在电子信息范畴能够用作清洗剂去除光刻胶和其他有机残留物、lift-off工艺的剥离剂、抗蚀剂的稀释剂、锂电池制作中电解质的常见溶剂、有用溶解聚酰亚胺(PI)前体等。
作为去胶剂常见的做法是级联清洗。预备三个清洗槽,第一个槽中简直彻底去除光刻胶残留物。将样品转移到第二个槽中清洗光刻胶残留物,然后转移到第三个槽中,最终用去离子水冲刷洁净。当到达预订的溶解能力,将第一个槽中溶液丢掉,将第二个和第三个槽中溶液向上移动一个方位。升高温度(最高80℃),超声/兆声清洗能进步去胶功率。
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