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  当时，我国国内的5纳米光刻配备首要由中微半导体企业制作。这一企业匠心独运，是国内仅有具有出产7纳米及5纳米工艺刻蚀机器才能的厂家。特别值得一提的是，其研制的5纳米等离子刻蚀设备已成功取得台积电的认可，行将应用于台积电开创性的5纳米芯片出产线，此举在全世界内亦属抢先地位。

  值得注意的是，虽然光刻机和刻蚀机在半导体制作范畴均扮演着要害人物，但两者承当的使命悬殊。光刻机担任在硅晶圆上制作精密的电路图样，而刻蚀机则紧接着履行图画的准确雕琢作业。因而，在评论半导体制作的先进工艺时，准确区别这两种设备的效果至关重要。

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  我国科学院光电技能研究所成功完成了国家严重科研项目——“超分辩光刻配备研制”，标志着我国自主研制的光刻设备达到了世界抢先的22纳米分辩率，使用紫外光技能，拓荒了纳米级加工的新途径。

  值得注意的是，虽然ASML的光刻技能全球抢先，其产品却是多国技能合作的结晶，包含美国的光学仪器和德国蔡司的镜头部件，以及全球各地供给的数以万计的零部件。

  虽然与ASML的5纳米技能比较，我国的光刻技能仍有提高空间，但这已是一次严重的技能跨过。技能进步向来是从起步到老练的进程，正如全部立异之初的应战。国产光刻机的成功起步，预示着未来的潜力无限，令人对我国科技的继续打破充满信心。究竟，我国在科技范畴已屡次展示其特殊的立异才能。

  在芯片制作的中心环节，光刻机运用精密的光源调控技能，保证光线透过精密的电路图画掩模，在高精度物镜的校正下，将电路规划准确缩放并转印至硅片上。随后，经过化学显影进程，这些规划被固化于硅片，成为构建电子世界的柱石。

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